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根據(jù)NB/T47013.4--2015要求:關(guān)于磁粉檢測(cè)非熒光磁粉檢測(cè)時(shí),缺陷磁痕的評(píng)定應(yīng)在可見(jiàn)光下進(jìn)行,且工件被檢表面可見(jiàn)光照度應(yīng)大于等于1000lx;現(xiàn)場(chǎng)檢測(cè)時(shí),由于條件所限可見(jiàn)光照度應(yīng)不低于500lx;標(biāo)準(zhǔn)中的可見(jiàn)光照度應(yīng)怎樣測(cè)量,用什么設(shè)備?實(shí)際檢測(cè)中應(yīng)怎樣操作?
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