能否通過(guò)一張階梯試塊射線底片獲得對(duì)應(yīng)射線機(jī)的曝光曲線

一般情況下，制作某臺(tái)X射線機(jī)的曝光曲線，要用不同的曝光參數(shù)對(duì)階梯試塊多次曝光，從而獲得一組或幾組射線底片，通過(guò)測(cè)各底片的黑度，來(lái)繪制KV-T曲線或E-T曲線。這樣制作曝光曲線很浪費(fèi)膠片，能否只對(duì)階梯試塊透照一次，然后通過(guò)膠片特性曲線計(jì)算獲得對(duì)應(yīng)的曝光曲線？如果可以，具體該如何做？請(qǐng)各位多多指點(diǎn)！

在網(wǎng)上找到這么一篇文章《曝光曲線制作的新方法及其應(yīng)用》，不知道有人看過(guò)沒(méi)，里面講述的就是如何利用一張階梯試塊射線底片制作曝光曲線，本人水平有限，沒(méi)能完全理會(huì)，還請(qǐng)高人指點(diǎn)。文章見(jiàn)附件。

如果精度要求不高……

jzxxs 發(fā)表于 2012-10-23 17:51
如果精度要求不高……

我也覺(jué)得如果能做出來(lái)，精度也不會(huì)很高，不過(guò)至少可以節(jié)約成本，是種新方法。

看來(lái)大家都沒(méi)有這么做過(guò)

有知道怎么做的么？

頂

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