射線檢測(cè)3級(jí)講課—第三章思考題

射線檢測(cè)第三章思考題
       
        問(wèn)題1：射線照相靈敏度定義?
        問(wèn)題2：射線照相靈敏度與超聲波檢測(cè)靈敏度有什么差異？
        兩者屬不同的概念——射線照相靈敏度對(duì)應(yīng)于提高圖像信噪比，靈敏度越高越有利于缺陷識(shí)別和檢出；超聲波檢測(cè)靈敏度是指回波信號(hào)的放大倍數(shù)，與信噪比無(wú)關(guān)，靈敏度高并不意味缺陷檢出率高。       
        問(wèn)題3：什么是絕對(duì)靈敏度?
        問(wèn)題4：什么是相對(duì)靈敏度?
        問(wèn)題5：JB/T4730.2采用的是絕對(duì)靈敏度還是相對(duì)靈敏度？
        問(wèn)題6：什么是像質(zhì)計(jì)靈敏度?
        問(wèn)題7：像質(zhì)計(jì)靈敏度與自然缺陷靈敏度的關(guān)系如何?
        問(wèn)題8：為什么射線照相靈敏度≠缺陷檢出率？
        問(wèn)題9：為什么“即使底片上像質(zhì)計(jì)靈敏度很高，黑度、不清晰度符合要求，也會(huì)出現(xiàn)裂紋難于檢出甚至完全不能檢出的情況？”
        問(wèn)題10：除了裂紋以外，還有哪些缺陷的檢出靈敏度與像質(zhì)計(jì)靈敏度不符？
        問(wèn)題11：射線照相對(duì)比度、不清晰度、顆粒度是如何定義的?
        問(wèn)題12：射線照相靈敏度影響因素是如何歸納的？
        問(wèn)題13：底片對(duì)比度增大有哪些有利和不利影響?
        問(wèn)題14：如果缺陷中不是充滿空氣，公式是什么樣？
        ΔI / I =（μ-μ’）ΔT/ （ 1 + n )
        問(wèn)題15：②③條假設(shè)有何區(qū)別？
        ②是指IS不變，③是指n不變，因?yàn)閚=Is/Ip，所以公式中Ip要用沒(méi)有缺陷存在的透射線值。       
         問(wèn)題16：怎樣理解“在大多數(shù)情況下，以上假設(shè)引起的誤差極小，因此公式是可以成立的。
        只有缺陷尺寸較小時(shí)，討論對(duì)比度才有意義。
        問(wèn)題17：公式由哪些參數(shù)構(gòu)成？
        問(wèn)題18：公式的意義和用途是什么？
        問(wèn)題19：主因?qū)Ρ榷群湍z片對(duì)比度的關(guān)系？
        問(wèn)題20：放大系數(shù)為3-8是從哪兒得來(lái)的？
        見(jiàn)第二章表2-13  膠片的分類；幾種膠片的梯度。
        問(wèn)題21：ΔT與缺陷尺寸和透照方向關(guān)系？
        問(wèn)題22：其他影響透照厚度差ΔT的因素？
        問(wèn)題23：衰減系數(shù)μ與射線能量關(guān)系？
        問(wèn)題24：材質(zhì)的哪些特性影響衰減系數(shù)μ
        問(wèn)題25：散射比有哪些影響因素？
        問(wèn)題26：使用高梯度膠片有哪些有利和不利影響?
        問(wèn)題27：提高黑度有哪些有利和不利影響?
        問(wèn)題28：改變顯影條件變化有哪些有利和不利影響?
        問(wèn)題28：怎樣理解“本影消失，對(duì)比度顯著下降現(xiàn)象”？
        問(wèn)題29：射線照相不清晰度U是如何定義的？
        問(wèn)題30：什么叫黑度過(guò)渡區(qū)的趾部和肩部？
        問(wèn)題31：黑度過(guò)渡區(qū)的趾部和肩部是如何產(chǎn)生的？
        問(wèn)題32：幾何不清晰度是如何定義的？
        問(wèn)題33：固有不清晰度是如何定義的？
        問(wèn)題34：U、Ug和Ui的關(guān)系?
        問(wèn)題35：公式（3-3）和（3-4）有什么不同？
        問(wèn)題36：JB/T4730怎樣規(guī)定L1與Ug值的？
        問(wèn)題37：通過(guò)哪些方法可以減小Ug值？
        問(wèn)題38：在減小Ug值的同時(shí)會(huì)帶來(lái)哪些不利影響？
        問(wèn)題39：焊縫上不同位置的Ug值受哪兩大因素影響?
        焦點(diǎn)投影，工件形狀。
        問(wèn)題40：縱焊縫照相，底片上各點(diǎn)的Ug值不同是焦點(diǎn)投影造成的？還是幾何條件造成的？
        焦點(diǎn)投影造成，工件形狀不產(chǎn)生影響。
        問(wèn)題41：環(huán)焊縫照相，底片上各點(diǎn)的Ug值不同是焦點(diǎn)投影造成的？還是幾何條件造成的？
        焦點(diǎn)投影和工件形狀都產(chǎn)生影響。
        問(wèn)題42：X射線、γ射線、高能X射線的固有不清晰度大致在什么數(shù)量級(jí)范圍？
        問(wèn)題43：比較正常情況下（焦距700mm，射源尺寸2mm），不同能量射線對(duì)不同厚度焊縫透照（100KV透照10mm焊縫、300KV透照30mm焊縫、Ir192透照50mm焊縫、 Co60透照100mm焊縫）的Ug和Ui值的大小？
        問(wèn)題44：如何解釋增感屏和膠片不貼緊導(dǎo)致固有不清晰度增大的現(xiàn)象？
        問(wèn)題4:5：JB/T4730對(duì)增感屏的使用是怎樣規(guī)定的?
        問(wèn)題46：雙絲像質(zhì)計(jì)結(jié)構(gòu)與用途？
        問(wèn)題47：什么叫顆粒性? 什么叫顆粒度? 顆粒度是怎樣構(gòu)成的?
        問(wèn)題48：顆粒幾何尺寸和黑度起伏的關(guān)系？
        問(wèn)題49：為什么說(shuō)顆粒度是隨機(jī)的?
        問(wèn)題50：形成底片顆粒度的隨機(jī)性有幾種？
        問(wèn)題51：膠片噪聲與哪些工藝參數(shù)相關(guān)?
        問(wèn)題52：量子噪聲與哪些工藝參數(shù)相關(guān)?
        問(wèn)題53：怎樣理解膠片粒度和感光速度對(duì)顆粒性的影響?
        問(wèn)題54：怎樣理解射線能量對(duì)顆粒性的影響?
        問(wèn)題55：怎樣理解顆粒度對(duì)細(xì)節(jié)顯示的影響?
        問(wèn)題56：什么是最小可見(jiàn)對(duì)比度？
        問(wèn)題57：怎樣理解“ΔD是底片上的客觀存在的量值，而ΔDmin不是？
        問(wèn)題58：對(duì)比度和最小可見(jiàn)對(duì)比度有什么關(guān)系？
        問(wèn)題59：底片上的缺陷在較暗的燈下未發(fā)現(xiàn)，而在較亮的燈下發(fā)現(xiàn)了，為什么會(huì)出現(xiàn)這樣的情況？
        問(wèn)題60：哪些因素影響最小可見(jiàn)對(duì)比度？
        問(wèn)題61：討論底片黑度、顆粒度、金屬絲影像寬度等因素對(duì)最小可見(jiàn)對(duì)比度的影響，為什么要固定觀片條件？
        問(wèn)題62：ΔDmin隨底片黑度、顆粒度、金屬絲影像寬度的變化趨勢(shì)？
        問(wèn)題63:最佳黑度是否存在？
        設(shè)想——拍攝不同黑度（從D=0到D=無(wú)法觀察）的像質(zhì)計(jì)底片，在觀片燈亮度固定的條件下，觀察這些底片，總會(huì)有一張底片的像質(zhì)計(jì)靈敏度最高。則該底片的黑度就是該觀片亮度下的最佳黑度。由于觀片燈亮度不可能無(wú)限提高，所以最佳黑度是客觀存在的。
        問(wèn)題63：（μ/1+n）代表什么？
        代表影響對(duì)比度的透照條件（射線能量、材質(zhì)和散射比），又稱比襯度。
        問(wèn)題64：平板試件可識(shí)別最小線徑d的黑度值大致在2.5左右”的結(jié)論的前提是什么？
        觀片燈亮度固定，2.5是當(dāng)年試驗(yàn)時(shí)觀片燈亮度水平得到的結(jié)果。
        問(wèn)題65：什么是“有余高焊縫試件透照的最佳黑度”什么是“有余高焊縫試件透照的最佳射線能量”？確定這兩個(gè)數(shù)值的前提是什么？
        問(wèn)題66：如何解釋“隨著膠片顆粒度增大和梯噪比減小，像質(zhì)計(jì)靈敏度變化不明顯，但裂紋識(shí)別度卻明顯下降”？
        問(wèn)題67：為什么工業(yè)射線照相不再允許使用熒光增感屏和金屬熒光增感屏？
        問(wèn)題68：JB/T4730對(duì)不同射線源配合使用的膠片類別是如何規(guī)定的？
        問(wèn)題69：如何認(rèn)識(shí)“使用Ir192γ射線源的缺陷檢出率明顯低于X射線”這一現(xiàn)象？
        問(wèn)題70：JB/T4730為什么規(guī)定透照厚度比K，對(duì)縱縫和環(huán)縫的K值是如何規(guī)定的？
        問(wèn)題71：什么叫“小缺陷”？
        問(wèn)題72：怎樣理解本影和半影的概念？
        問(wèn)題73：怎樣理解W′/ W ＜ 1時(shí)缺陷有本影，W′/ W ＞ 1時(shí)缺陷無(wú)本影？
        問(wèn)題74：W′的計(jì)算公式是怎樣推導(dǎo)的？
        問(wèn)題75：如何理解到達(dá)膠片上P點(diǎn)的射線會(huì)通過(guò)金屬絲截面abcd部分”？
        問(wèn)題76：為什么要把“到達(dá)膠片上P點(diǎn)的射線通過(guò)金屬絲截面abcd部分近似認(rèn)為是通過(guò)a1b1c1d1部分“？
        問(wèn)題77：為什么要“假設(shè)焦點(diǎn)尺寸f范圍內(nèi)各點(diǎn)發(fā)出的射線強(qiáng)度是相同的。”
        問(wèn)題78：怎樣理解”對(duì)膠片上P點(diǎn)作用的厚度差△X不是金屬絲直徑d，而應(yīng)為d″在w′之間的平均值dm″？
        問(wèn)題79：計(jì)算σ值時(shí)，為什么“當(dāng)w′≤d時(shí)，用公式（3-9 a）計(jì)算，當(dāng)w′>d時(shí)用公式（3-9 b）計(jì)算？”w′≤d和w′>d各代表什么情況？
        問(wèn)題80：對(duì)比度修正系數(shù)σ的實(shí)質(zhì)是什么？
        問(wèn)題81：小缺陷照相的對(duì)比度公式的和平板照相的對(duì)比度公式有什么差別？
        問(wèn)題82：如何理解“公式3.11的數(shù)學(xué)意義是進(jìn)行了一次等面積代換”？
        問(wèn)題83：計(jì)算裂紋σ值時(shí)，為什么w′≤w和w′≥w時(shí),要采用不同計(jì)算公式？
        問(wèn)題84：怎樣理解裂紋的σ值比像質(zhì)計(jì) 的σ值下降得快？
        問(wèn)題85：裂紋高度、寬度、截面積對(duì)其影像對(duì)比度產(chǎn)生怎樣的影響？
        問(wèn)題86：什么情況下會(huì)發(fā)生“焦點(diǎn)的兩端部分區(qū)域發(fā)出的射線可不經(jīng)過(guò)缺陷而直接到達(dá)P點(diǎn)”？
        問(wèn)題87：嘗試畫出W′/ W = 2，W′/ W = 3，W′/ W = 4的幾何條件下，焦點(diǎn)的兩端發(fā)出的射線不經(jīng)過(guò)缺陷而直接到達(dá)P點(diǎn)的圖，理解直接到達(dá)P點(diǎn)的焦點(diǎn)面積和穿過(guò)缺陷到達(dá)P點(diǎn)的焦點(diǎn)面積與W′/ W的關(guān)系？
        問(wèn)題88：影像初始對(duì)比度σ0是w′= w時(shí)的對(duì)比度修正系數(shù)，對(duì)不對(duì)？
        問(wèn)題89：怎樣理解“σ0與缺陷形狀有關(guān)”？裂紋、條渣、氣孔的σ0分別是多少？
        問(wèn)題90：是否能從物理意義上解釋Ug（半影的寬度）影響對(duì)比度？公式3-19是否能夠推導(dǎo)出來(lái)？
        問(wèn)題91：公式3-19無(wú)法推導(dǎo)，但為什么卻可以實(shí)際應(yīng)用?為什么說(shuō)“式（3-19）實(shí)際上只是式（3-16）的一種近似表達(dá)？”
        問(wèn)題92：使用公式3-19，是否能描述出缺陷形狀、寬度等參數(shù)對(duì)其影像對(duì)比度的影響？
        問(wèn)題93：幾何因素導(dǎo)致小缺陷影像發(fā)生怎樣的變化？
        問(wèn)題94：影響小缺陷影像對(duì)比度的幾何因素一共有幾個(gè)？
        問(wèn)題95：該試驗(yàn)中，為什么在焦距減小到大約600mm時(shí)，裂紋靈敏度曲線急劇下降
        問(wèn)題96：裂紋靈敏度與絲型、孔型像質(zhì)計(jì)靈敏度隨焦距減小的變化存在差異，如何解釋這種差異？
        問(wèn)題97：公式3-20與公式3-1有什么差異？
        問(wèn)題98：公式3-21和公式3-22中有幾個(gè)未知數(shù)？Cs和GD是已知數(shù)還是未知數(shù)？
        問(wèn)題99：厚度靈敏度ΔX與哪些因素有關(guān)？
        問(wèn)題100：假設(shè)（1）、（2）的依據(jù)從何而來(lái)？
        問(wèn)題101：假設(shè)（3）“膠片乳劑顆粒性對(duì)影像的可識(shí)別性作用忽略不計(jì)。”對(duì)公式實(shí)際應(yīng)用有什么影響？
        問(wèn)題102：怎樣理解假設(shè)（4）“小缺陷影像對(duì)比度取決于小缺陷體積ΔV而不是高度ΔT”？該假設(shè)與σ公式推導(dǎo)中“膠片上P點(diǎn)的黑度取決于射線通過(guò)的缺陷截面積”有什么差別？
        問(wèn)題103：假設(shè)（5）對(duì)不同形狀缺陷的影像前沿的黑度變化，用形狀系數(shù)ζ修正，有什么意義？
        問(wèn)題104：裂紋靈敏度公式dW=ζ△X(dsinθ+Wcosθ+U)，公式左邊的dW是什么？公式右邊的ζ和△X是什么？
        問(wèn)題105：如何利用公式進(jìn)行階梯像質(zhì)計(jì)與絲像質(zhì)計(jì)換算？
        問(wèn)題106：如何利用公式進(jìn)行階梯像質(zhì)計(jì)與裂紋靈敏度換算？
        問(wèn)題107：裂紋靈敏度公式有何意義？
        問(wèn)題108：什么叫面積型缺陷？裂紋的特殊性表現(xiàn)在哪些方面？
        問(wèn)題109，描述裂紋用哪些參數(shù)？為什么說(shuō)，W、θ、d是裂紋檢出的關(guān)鍵參數(shù)？
        問(wèn)題110：裂紋類缺陷的檢出率與象質(zhì)計(jì)靈敏度對(duì)應(yīng)關(guān)系不好是哪些原因造成的？
        問(wèn)題111：透照角度θ會(huì)引起裂紋影像的哪些變化？
        問(wèn)題112：開(kāi)口寬度w對(duì)裂紋的檢出影響表現(xiàn)在哪里？底片上裂紋影像沒(méi)有實(shí)影時(shí)，其影像發(fā)生哪些變化？
        問(wèn)題113：怎樣理解“在高度相同的各種缺陷中，裂紋形狀的缺陷的穿越行程平均值dm″是最低的”？
        問(wèn)題114：透照厚度對(duì)裂紋檢出率的影響表現(xiàn)在哪些方面？
        問(wèn)題118：為什么γ射線成像質(zhì)量不如X射線？
        問(wèn)題119：JB/T4730對(duì)γ射線照相的膠片使用是怎樣規(guī)定的？
        問(wèn)題120：底片噪聲的定義是什么？要能識(shí)別細(xì)節(jié)，信噪比至少須達(dá)多少？
        問(wèn)題121：輸入信號(hào)由哪些因素決定？背景噪聲是如何產(chǎn)生的？什么是輸入信號(hào)的信噪比？
        問(wèn)題122：梯噪比由哪些因素決定？
        問(wèn)題123：怎樣理解“梯噪比越高，意味著信號(hào)的放大能力越強(qiáng)且產(chǎn)生的附加噪聲越少”？
        問(wèn)題124：底片的信噪比是什么？
        問(wèn)題125：信噪比和梯噪比的差別和關(guān)系是什么？
        問(wèn)題126：信號(hào)與曝光量是什么關(guān)系？噪聲與曝光量是什么關(guān)系？信噪比與曝光量是什么關(guān)系？
       
       

收藏了。謝謝！

支持你加分

{:soso_e163:}

{:soso__16984349925490629196_1:}

太多了吧

{:soso_e179:}

學(xué)習(xí)了，仔細(xì)研究研究
去年都弄清楚了，現(xiàn)在怎么又忘了。

{:soso_e163:}

正好準(zhǔn)備去考試，有助于增強(qiáng)理解看書的效果